TSMC°¡ ÇöÀç 16nm °øÁ¤ÀÇ ÈļÓÀ¸·Î Áغñ ÁßÀÎ 7nm °øÁ¤ Á¦Ç°µéÀÇ ¾ç»êÀÌ ºü¸£¸é 2018³â 1ºÐ±â ½ÃÀÛµÉ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù.
TSMCÀÇ ºñÁö´Ï½º °³¹ßºÎÀÇ ¼ö¼® ÀÌ»ç(Senior director)ÀÎ Simon WangÀº ´ë¸¸ ¼¼¹ÌÄÜ(Semicon) »çÀü ±âÀÚ È¸°ß¿¡¼ ÇöÀç ¼¼ °÷ÀÇ °í°´»ç Á¦Ç°¿¡ ´ëÇÑ 10nm °øÁ¤ Å×ÀÙ ¾Æ¿ô(tape out)À» ÁøÇà ÁßÀ̸ç, 2017³â 1ºÐ±â¿¡ »ý»êÀ» ½ÃÀÛÇÒ °èȹÀ̶ó°í ¹àÇû´Ù.
ÀÌ¿¡ ´õÇØ °æÀï»çº¸´Ù ¼º´É°ú Àü·Â, Å©±â(PPA, power, performance, area)¿¡¼ À¯¸®ÇÑ Â÷±â °øÁ¤ÀÎ 7nm Á¦Ç°ÀÇ ¾ç»êÀº 2018³â 1ºÐ±â·Î °èȹÀ» Àâ°í ÀÖ´Ù¸ç, EUV¸¦ ÀÌ¿ëÇÑ 5nm °øÁ¤ ±â¹Ý »ý»êÀº 2019³â »ó¹Ý±â ½ÃÀÛÇÒ ¼ö ÀÖÀ» °ÍÀ¸·Î ±â´ëÇÑ´Ù°í ÇâÈÄ ·Îµå¸ÊÀ» °ø°³Çß´Ù.
ÇÑÆí, °æÀï»çÀÎ ±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®´Â 10nm¸¦ °Ç³Ê ¹Ù·Î 7nm °øÁ¤À» µµÀÔÇÒ °èȹÀ¸·Î µµÀÔ ½Ã±â´Â 2017³âÀÌ À¯·Â½Ã µÇ°í ÀÖÀ¸¸ç, ÀÎÅÚÀº 10nm °øÁ¤ÀÇ ÄÚµå³×ÀÓ Ä³³í·¹ÀÌÅ© ½ÃÇè »ý»êÀ» ¿ÃÇØ 3ºÐ±â ¿¹Á¤ÇÏ°í ÀÖ´Â °ÍÀ¸·Î ¾Ë·ÁÁ³´Ù.
|