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http://news.kbench.com
인텔은 오늘, 세계최초로 45nm 공정 기술개발에 성공했다고 밝혔다.
인텔은 오늘의 발표에서 45nm 기술을 이용한 완전하게 동작하는 SRAM을 생산했다고 밝혔으며, 오늘의 성공을 기반으로 2007년에 45nm공정의 300mm 웨이퍼를 생산, 제품화 할 수 있는 발판을 마련하였다.
현재 인텔은 애리조나와 오레곤에 65nm 공정의 fab을 가동하고 있으며, 아일랜드와 오래곤에 추가적인 65nm fab을 건설중이다.
인텔 기술제조그룹의 부사장인 빌 홀트는 "가장 먼저 65nm 공정 기술의 대량생산 설비를 갖춘 것과 가장 먼저 45nm 기술을 성공시킨 것이야말로 반도체 기술과 생산에 있어서 인텔의 선도자적 위치를 말해주는 것이다."라고 말하며 "인텔의 45nm 기술은 PC의 와트당 성능의 향상으로 사용자들에게 한차원 향상된 경험을 제공하는 토대가 될 것이다."라고 말했다.
45nm 공정 기술은 현재 생산되고있는 반도체 제품에 비해 손실전력량은 1/5로 줄일 수 있기 때문에 휴대용 기기의 배터리 사용시간을 늘릴 수 있으며, 더 작고 강력한 플랫폼을 만들 수 있다.
인텔은 오레곤에 있는 D1D 설비와 현재 건설중인 애리조나와 이스라엘의 fab 32, fab 28에서도 45nm 공정을 도입할 것으로 보인다.
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