인텔이 7nm EUV 공정에서 제조한 XE기반 GPU가 2021년에 대량 생산할 예정이란 정보가 전해졌다.
인텔은 14nm공정 이후인 10nm 공정에 있어 대량 양산화 하는데 수년간 지연이 된바 있으며, 프로세서 공급에 있어서도 부족할 것이라는 예측이 나오고 있다. 때문에 이러한 문제를 해결하기 위해 인텔은 7nm 공정을 빠르게 도입 및 완성하려는 것이라는 분석이 나오고 있다.
이번에 전해진 7nm EUV 공정은 인텔의 차세대 공정으로 기존 10nm 프로세서 대비 트랜지스터 밀도를 두배 가량 높였으며 와트당 20%가량 성능 향상되었고 설계 복잡성을 4배 가량 줄인 차세대 공정이다. 즉 2020년에 출시할 예정인 XE 그래픽 카드는 10nm 기반이며 이번에 확인된 정보는 다음 차세대 공정인 7nm EUV기반 프로세서를 2021년 양산을 목표로 하고 있다는 내용이다.
일전에 유출된 정보의 일환 중 하나로 인텔의 XE 그래픽 카드 중 고급형은 512개의 EU를 갖고 있는데 이 모델의 유출된 부동소수점 점수가 10.6 TFLOPS라는 점이다.해당 점수는 NVIDIA의 RTX2080이 10TFLOPS라는 점을 참고하면 실질 RTX 2080급이라는 추측이다.
한편 실제 인텔의 10nm기반 7nm EUV 기반 등 실제 제품 출시까지는 어느정도 시간이 남은만큼 실제 제품이 등장했을때 그래픽카드 시장의 반응이 어떨지 많은 관심이 모이고 있다.
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