대만 파운드리 업체 TSMC가 고성능 컴퓨팅(HPC) 제품의 까다로운 워크로드에 맞게 조정된 N4X 프로세스 기술을 도입한다고 밝혔다.
N4X는 5nm(나노미터) 제품군에서 최고의 성능과 최대 클럭 주파수를 나타내는 TSMC의 HPC 중심 기술 제품 가운데 첫 번째로 5nm 양산 경험을 활용하여 HPC 제품에 이상적인 기능으로 기술을 더욱 향상시켰다.
이러한 기능에는 높은 구동 전류 및 최대 주파수에 최적화된 장치 설계 및 구조, 고성능 설계를 위한 백엔드 메탈 스택 최적화, 극한의 성능 부하에서 강력한 전력 공급을 위한 초고밀도 메탈-인슐레이터-메탈 캐패시터 등이 있다.
TSMC는 N4X 프로세스는 1.2V에서 N5 공정 대비 최대 15%, N4P 대비 최대 4% 향상된 성능을 제공할 수 있으며, N4X는 1.2V 이상의 구동 전압을 달성하고 추가 성능을 제공할 수 있다고 설명했다. 또한 고객은 N5 프로세스의 공통 설계 규칙을 활용하여 N4X 제품 개발을 가속화 할 수 있다고 언급했다.
TSMC는 N4X가 2023년 상반기까지 위험 생산(risk production) 단계에 들어갈 수 있을 것으로 예상했다.
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