삼성전자가 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 전용 'V1 라인' 본격 가동에 들어간다.
삼성전자는 보도자료를 통해 화성사업장에 반도체 미래를 이끌 최첨단 EUV 전용 라인인 'V1 라인'을 본격적으로 가동하고 '반도체 비전 2030' 달성에 나섰다고 밝혔다.
V1 라인은 삼성전자의 첫 번째 EUV 전용 라인으로 2018년 초 건설을 시작해 2019년 하반기에 완공되었으며, 초미세 EUV 공정 기반 7나노부터 혁신적인 GAA(Gate-All-Around) 구조를 적용한 3나노 이하 차세대 파운드리 제품을 주력으로 생산할 계획이다.
삼성전자는 2020년까지 누적 투자 금액은 약 600억불 수준이며, V1 라인 가동으로 2020년 말 기준 7나노 이하 제품의 생산 규모는 2019년 대비 약 3배 이상 확대될 것으로 예상했다.
삼성전자는 2019년 4월 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 7나노 SoC 제품을 출하한 데 이어, 2019년 하반기부터는 6나노 제품 양산을 시작했다. 5나노 공정은 2019년 하반기 제품 설계를 완료했으며, 4나노 공정은 2020년 상반기 공정 개발을 완료하고 하반기에 제품 설계도 마칠 계획이다.
삼성전자는 최첨단 공정 기술을 바탕으로 퀄컴, 바이두 등 대형 팹리스 기업과 협력을 추진하며 모바일부터 HPC(High Performance Computing) 분야까지 파운드리 영역을 확대해 나가고 있다고 밝혔다.
또 V1 라인은 5G·AI·자율주행 등 4차 산업혁명 시대를 가속화하는 차세대 반도체 생산 핵심기지로서 역할을 할 것으로 기대했다.
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