인텔(Intel)과 도시바(Toshiba), 그리고 삼성전자가 10나노(nm)급 차세대 반도체 공정 기술을 공동으로 개발한다는 소식이다.
일본 니혼게이자이 신문은 삼성전자와 인텔, 도시바가 2016년까지 반도체 회로 선폭을 현재의 절반 이상 줄여 10나노급으로 축소하기는 기술을 공동으로 개발하기 위해 협력하기로 했다고 보도했다.
이를 위해 3개 회사에서 글로벌 연구조직을 설립할 예정이며, 일본의 주요 반도체 재료업체들도 참여할 것이라고 한다. 또한 일본 경제산업성에서 100억엔의 초기출자금 가운데 절반을 보조하기로 했다.
세계 반도체 시장 점유율 Top 3업체가 공동으로 10나노급 기술 개발에 나선 가운데, 이번 연구가 성과를 얻게 되면 인텔-도시바-삼성전자와 반도체 시장 하위 업체들 간의 기술 격차는 더욱 벌어질 것으로 예상된다.
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