TSMCÀÇ 5nm °øÁ¤ ½ÃÇè »ý»ê °á°ú°¡ ¾çÈ£ÇÏ´Ù´Â ¼Ò½ÄÀÌ ÀüÇØÁ³´Ù.

TSMCÀÇ 5nm °øÁ¤Àº ÇöÀç 7nm °øÁ¤°ú ºñ±³ÇØ 1.8¹èÀÇ ¹Ðµµ¿Í 15% ¼º´É Çâ»óÀÌ ±â´ëµÇ¸ç, µðÀÚÀÎ ÆÄÆ®³Êµé°ú ÇÔ²² ½Ç½Ã°£ 5nm ½ÃÇè »ý»ê¿¡¼ ¸¸Á·½º·± °á°ú¸¦ ¾ò¾î³Â´Ù´Â ¼Ò½ÄÀÌ ÀüÇØÁ³´Ù. ¾ÆÁ÷ 5nm °øÁ¤ÀÇ ½ÇÁ¦ ¾ç»ê ½Ã±â´Â È®½ÇÄ¡ ¾ÊÁö¸¸ 2020³â ¾ç»êÀ» °èȹ ÁßÀÌ´Ù.
ÇöÀç TSMCÀÇ ÁÖ·Â °øÁ¤ÀÎ 7nm ¶óÀÎÀº EUV ¼³ºñ¸¦ µµÀÔ, Áö³´Þ ¸»ºÎÅÍ ¾ç»êÀ» ½ÃÀÛÇØ ´õ ¸¹Àº ¹°·® ¼ÒÈÇÏ´Â µ¿½Ã¿¡ 100%¿¡ °¡±î¿î °¡µ¿À²À» º¸ÀÏ °ÍÀ¸·Î ±â´ëµÇ°í ÀÖ´Ù. ¶ÇÇÑ 3ºÐ±â¿¡´Â ¾ÖÇà ¾ÆÀÌÆùÀ» À§ÇÑ ½ÅÇü AP »ý»êµµ ½ÃÀÛÇÒ °ÍÀ¸·Î ¾Ë·ÁÁ³´Ù.
|