±¹³» ±¤ÇЕ°Ë»çÀåºñ Àü¹®±â¾÷ ¿µ¿ìµð¿¡½ºÇÇ(143540)´Â ¼¿ï ÄÚ¿¢½º(COEX)¿¡¼ ¿¸®´Â ‘SEDEX 2025(¹ÝµµÃ¼´ëÀü)’¿¡ Âü°¡ÇØ, ¹ÝµµÃ¼ °Ë»ç Àåºñ »ç¾÷À¸·ÎÀÇ º»°Ý ÀüȯÀ» ¾Ë¸®´Â ½Å±Ô ¶óÀξ÷À» ¼±º¸Àδٰí 22ÀϹàÇû´Ù.
¿À´ÃºÎÅÍ 24ÀϱîÁö °³ÃֵǴ À̹ø Àü½Ã¿¡¼ ¿µ¿ìµð¿¡½ºÇÇ´Â ¡ãWafer 2D/3D AOI Àåºñ ¡ãCD/Overlay ÃøÁ¤ ±â¼ú ¡ãWafer Edge Crack °Ë»ç ±â¼ú ¡ãDUV(129nm) ·¹ÀÌÀúȰ¿ë 10nm °áÇÔ ÃøÁ¤ ±¤ÇÐ ¼³°è ±â¼ú ¡ãWafer Æú¸®½Ì(Polishing) ÃøÁ¤ ±â¼ú ¡ãÀΰøÁö´É AI Àû¿ë °ú°Ë Filtering ±â¼ú µî ÷´Ü ¹ÝµµÃ¼ ¿þÀÌÆÛ °Ë»ç ¹× °èÃø(Metrology) ¼Ö·ç¼ÇÀ» ÃâǰÇÑ´Ù.
ƯÈ÷, Wafer 2D/3D AOI Àåºñ´Â ¼¼°è ÃÖ°í ¼öÁØÀÇ WPH(Wafer Per Hour) »ý»ê¼ºÀ» ±¸ÇöÇßÀ¸¸ç, ÀÌ¹Ì ±¹³»ÁÖ¿ä OSAT ±â¾÷ÀÇ ¾ç»ê ¶óÀο¡¼ °ËÁõÀ» ÅëÇØ Àåºñ ¼º´ÉÀÇ ½Å·Ú¼ºÀ» È®º¸Çß´Ù.
¶ÇÇÑ, Wafer Metrology °Ë»ç ±â¼úÀÇ °æ¿ì Â÷¼¼´ë ¹Ì¼¼°øÁ¤¿¡ÇʼöÀûÀÎ CD(Critical Dimension) ¹× Overlay Á¤¹Ð ÃøÁ¤ ±â¼ú, Wafer ¿Ü°ü °Ë»ç (AOI) ±â¼ú, DUV(129nm) ·¹ÀÌÀú ±¤¿øÀ» ±â¹ÝÀ¸·Î ÇÑ 10nm±Þ ¹Ì¼¼ °áÇÔ ÃøÁ¤ ±¤ÇÐ ¼³°è ±â¼ú µî ÷´Ü ¹ÝµµÃ¼ ±â¼ú·ÂÀ» ¼±º¸ÀδÙ.
¾Æ¿ï·¯ ÀΰøÁö´É AI¸¦ Ȱ¿ëÇÑ °Ë»ç& ÃøÁ¤ °á°ú¸¦ ´ë»óÀ¸·Î °ú°Ë(Overkill)¿¡ ´ëÇÑ ÃÖ¼ÒÀÇ »ùÇÃ(Data Set)·Îµµ ÇнÀÀÌ °¡´ÉÇÑ Filtering ±â¼úµµ ¼±º¸ÀδÙ. ÇØ´ç ±â¼úÀº ÇöÀç 99.7%ÀÇ Á¤È®µµ¸¦ º¸À¯Çϰí ÀÖ´Ù.
¿µ¿ìµð¿¡½ºÇÇ °ü°èÀÚ´Â “±×µ¿¾È µð½ºÇ÷¹ÀÌ °Ë»ç Àåºñ ºÐ¾ß¿¡¼ ÃàÀûÇØ¿Â±¤ÇЕ¿µ»óó¸® ±â¼úÀ» ±â¹ÝÀ¸·Î ¹ÝµµÃ¼ °Ë»ç ½ÃÀåÀ¸·Î ¿µ¿ªÀ» È®ÀåÇϰí ÀÖ´Ù”¸ç “À̹ø SEDEX 2025¸¦ ÅëÇØ ¹ÝµµÃ¼ °Ë»ç(Inspection) ¹× ÃøÁ¤(Metrology) ±â¼ú °æÀï·ÂÀ» ½ÃÀå¿¡ ¼±º¸ÀÌ´Â °è±â°¡ µÉ °Í”À̶ó°í ¸»Çß´Ù.
|