인텔은 45nm 공정 제품을 생산하게될 네 번째 생산 공장을 미국 뉴맥시코주에 위치하고 있는 Fab 11X를 이용할 것이라는 소식이 dailytech에 올라왔다.
미국 New Mexico주에 위치한 Intel Fab 11X
Fab 11X는 미국 New Mexico주 Rio Rancho에 위치하며, 45nm 공정 제품을 생산할 네 번째 공장이 될 것이라고 한다. 이미 Fab 11X는 90nm 공정의 Pentium4를 300mm 웨이퍼로 2002년 10월부터 생산하였고 인텔의 300mm 웨이퍼를 생산할 수 있는 첫 번째 공장으로 자동화 공정을 갖추고 있는 곳이다.
이번 Fab 11X를 45nm 공정 프로세서를 생산하기 위해 인텔은 1billion에서 1.5billion을 투입하여 45nm 공정 생산 부분을 추가할 것이라고 한다. 스케쥴이 정상적으로 진행된다면, 2008년 후반기에 45nm 공정 제품 생산을 시작할 것이라고 한다.
또, 인텔의 45nm 초기 제품은 인텔 Oregon에 위치한 D1D fab에서 양산을 시작하며, 45nm 제품 생산이 가능한 공장을 Arizona Chandler Fab 32에 2007년 후반에, 이스라엘 Kiryat Gat에 2008년 전반에 가동할 예정이라고 한다.
한편, 인텔 Penryn은 첫 번재 45nm 공정이 적용된 프로세서로 High-K 유전체와 Metal Gate 트랜지스터로 트랜지스터의 누수 전류를 줄였고 제온 시리즈에는 45nm 공정을 올해 후반부터 적용할 것이라고 한다.
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