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전송 2013-01-28 11:44
[뉴스]

기존 방식 1/10 수준인 100도 미만에서 실리콘 결정화 기술 개발

현재 PC 관련 칩셋을 비롯한 대부분의 반도체 생산에 필수적인 결정화된 실리콘 생산은 약 1000℃ 이상의 고온을 이용하는 과정에서 이산화 탄소와 같은 환경에 부정적인 부산물이 발생하는데, 이를 획기적으로 줄일 수 있는 기술이 개발되었다.

 

 

 

미시간 대학에 따르면 이번에 개발한 기술은 기존보다 약 1/10 수준인 82.2℃(화씨 180F)에서 실리콘 결정을 얻을 수 있는 것으로, 실리콘 테트라클로라이드(Silicon tetrachloride) 수용액과 액화 갈륨으로 코팅된 전극을 이용해 실리콘 테트라클로라이드를 로우 실리콘(raw silicon)으로 변환 시키는 방식이라고 설명했다.

 

 

새로운 방식으로 생산된 실리콘 크리스탈 결정 전자 현미경 사진

 

연구팀에 따르면 이번 연구에서 실리콘 결정은 갈륨 전자 표면에 약 1/2000mm 두께(지름)로 축적되었으며, 아직 상용화를 논할 단계는 아니지만 현재 반도체 제품의 기반이랄 수 있는 실리콘의 생산에 필요한 에너지와 부산물, 비용을 획기적으로 줄일 수 있을 것으로 기대된다고 언급했다.

 

한편, 연구팀은 관련 기술에 대한 특허를 신청하고 실리콘 결정의 크기를 키우기 위한 연구를 계속할 방침으로, 해당 기술의 상용화를 위한 파트너를 구하는 중이라고 전했으며, 자세한 내용은 미시간 대학 홈페이지에서 확인할 수 있다.

  태그(Tag)  : 반도체, 실리콘
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  이상호 기자 / 필명 이오니카 / 이오니카님에게 문의하기 ghostlee@bodnara.co.kr
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2014년부터 어려운 이야기를 쉽게 하는 것으로 편집방침을 바꿉니다.

Meho ho5945님의 미디어로그 가기  / 13-01-28 19:58/ 자국/ 신고/ 이댓글에댓글달기
자세한건 몰라도 공정은 굉장히 획기적으로 축소될 수 있겠네요.

마프티 psywind님의 미디어로그 가기  / 13-01-29 0:04/ 자국/ 신고/ 이댓글에댓글달기
새로운 소자로 이용되려면 아직 멀었겠죠?ㅎㅎ

게리킬달추종자 / 13-01-29 10:45/ 자국/ 신고/ 이댓글에댓글달기
기화시켜서 결정만든다는걸로 알고 있는데 더 안전한 방법이겠군요~

프리스트 rubychan님의 미디어로그 가기  / 13-02-04 10:59/ 자국/ 신고/ 이댓글에댓글달기
상용화에 성공할 수 있을지.
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