TSMC´Â Áö³ÁÖ 2012³â 4ºÐ±â ½ÇÀû ¹ßÇ¥¸¦ ÅëÇØ 28nm °øÁ¤ ±â¹ÝÀÇ Ä¨ÀÇ ÃâÇϰ¡ Áö¼ÓÀûÀ¸·Î Áõ°¡ Ãß¼¼À̸ç 4ºÐ±â TSMCÀÇ ¿þÀÌÆÛ (Wafers) ÆÇ¸Å Áß 28nm ĨÀÌ °ÅÀÇ 50%ÀÇ Áõ°¡°¡ À̾îÁ³´Ù°í ¹àÇû´Ù.
TSMC´Â 2012³â 28nm °øÁ¤ ±â¼úÀÌ ¼º°øÀûÀ¸·Î ¾ÈÂøÇßÀ¸¸ç 28nm °øÁ¤ ±â¼úÀÇ ÆÄ¿îµå¸® ½ÃÀå Á¡À¯À²ÀÌ °ÅÀÇ 100%¿¡ °¡±î¿ü´Ù°í TSMC Morris Chang CEO´Â ÀüÇß´Ù.
28nm °øÁ¤ ±â¹Ý ĨÀÇ ÃâÇÏ·®Àº TSMC Àüü ¿þÀÌÆÛ ¼öÀÍÀÇ 22%¿¡ À̸£°í ÀÖÀ¸¸ç 40nm´Â 22%, 65nm´Â 19%¶ó°í ¹àÇû´Ù. Àüü ¿þÀÌÆÛ ¼öÀÍ Áß Áøº¸µÈ ±â¼úÀÌ Àû¿ëµÈ ĨÀÇ ºñÁßÀÌ 63%¿¡ À̸¥´Ù°í ÀüÇß´Ù.

2012³â 4ºÐ±â TSMC´Â 10¾ï ´Þ·¯ ($1billion)¿¡ °¡±î¿î ¼öÀÍÀ» ´Þ¼ºÇßÀ¸¸ç ÀÌ´Â 28nm °øÁ¤ ±â¼ú ±â¹ÝÀÇ ¿þÀÌÆÛ ÆÇ¸Å°¡ Å« ¿µÇâÀ» ÁØ °ÍÀ¸·Î ¾Ë·ÁÁ³´Ù.

TSMC´Â ÇöÀç 28nm °øÁ¤ ±â¼ú °í¼º´É°ú ÀúÀü·ÂÀ¸·Î ³ª´©°í ÀÖÀ¸¸ç ¼³°è¸¦ °£¼ÒÈÇÑ ¹öÀüÀÎ ÀúÀü·Â CLN28LP (SiON, Silicon Oxynitride)°¡ ÆÕ¸®½º (FablesS) °í°´µé¿¡°Ô °¡Àå ÀαâÀÖ´Â °ÍÀ¸·Î ¾Ë·ÁÁ³´Ù. °í¼º´ÉÀ» À§ÇÑ CLN28HP (HKMG, High-K Metal Gate)´Â AMD¿Í ¿£ºñµð¾Æ (NVIDIA) µî°ú °°Àº ¿ÜÀå GPU¿¡ Àû¿ëµÇ°í ÀÖ´Ù.
TSMC´Â Áö³ÇØ 28nm »ý»êÀº CLN28LP°¡ ÁÖ¸¦ ÀÌ·ç¾úÀ¸³ª Áøº¸µÈ ¹öÀüÀÎ CLN28HP (HKMG)´Â 3ºÐ±â¿Í 4ºÐ±â CLN28LP¸¦ ³Ñ¾î¼¹´Ù°í ÀüÇß´Ù.
28nm ±â¹Ý ĨÀÇ ¼ö¿ä´Â Áö¼ÓÀûÀ¸·Î Áõ°¡Çϰí ÀÖÀ¸¸ç TSMC´Â »ý»ê ÃÖÀûȸ¦ ÅëÇØ ¼öÀ²À» °³¼±Çϰí ÀÖ´Â °ÍÀ¸·Î ¾Ë·ÁÁ³´Ù.
TSMC´Â 28nm °øÁ¤ ±â¼úÀÇ »ý»ê·®Àº Áõ°¡ÇÒ °ÍÀ¸·Î ¿¹»óÇßÀ¸¸ç 2012³â ÇÑÇØµ¿¾È 4ºÐ±â 200mm¿Í µ¿µîÇÑ ¿þÀÌÆÛ¸¦ ¾à 4¹é¸¸°³·Î 4% Áõ°¡ÇßÀ¸¸ç 300mm ¿þÀÌÆÛ´Â 21% Çâ»ó, Àüü Æò±Õ Áõ°¡´Â 14%·Î ¾à 1õ 5¹é¸¸ÀåÀÇ ¿þÀÌÆÛ »ý»êÀÌ °¡´ÉÇß´Ù°í ÀüÇß´Ù.
¶ÇÇÑ Áö¼ÓÀûÀ¸·Î Àüü »ý»ê·®Àº Áõ°¡ÇÒ °ÍÀ¸·Î º¸¾ÒÀ¸¸ç 2013³â 1ºÐ±â´Â Áß±¹ ÃáÀý µîÀÇ ¿µÇâÀ¸·Î 1.2% Á¤µµ °¨¼ÒÇÒ °ÍÀ̶ó°í ¹àÇû´Ù.
|